Metadata
| 000 -Etiqueta do registo |
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| campo de controlo de comprimento fixo |
00719naa0a22001930004500 |
| 001 - Identificador do registo |
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| Campo de controlo |
109430 |
| 005 - Identificador da versão |
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| Campo de controlo |
20200804121508.0 |
| 100 ## - Dados Gerais de Proc. |
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| Dados gerais de processamento |
19960319d1995 k y0pory5003 ba |
| 101 0# - Língua da publicação |
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| Língua do texto,banda sonora,etc. |
Inglês |
| 102 ## - País de Publicação |
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| País de publicação |
Reino Unido |
| 200 1# - Título |
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| Título próprio |
Deposition and properties of titanium nitride films produced by dc reactive magnetron sputtering |
| Primeira menção de responsabilidade |
Li-Jiang Meng, A. Azevedo and M. P. dos Santos |
| 461 ## - Nível de Conjunto |
|---|
| Autor |
Vacuum. - Oxford |
| Número do volume |
V.46, nº3 (1995), p. 233-239 |
| 675 ## - CDU |
|---|
| Notação |
539.23 |
| Edição |
med |
| Língua da edição |
Português |
| 700 #1 - Responsabilidade principal |
|---|
| Palavra de ordem |
Santos, |
| Outra parte do nome |
Manuel Armando Oliveira Pereira dos |
| 701 #1 - Co-responsabilidade principal |
|---|
| Koha Internal Code |
103827 |
| Palavra de ordem |
Li-Jian Meng |
| Código de função |
Autor |
| 701 #1 - Co-responsabilidade principal |
|---|
| Koha Internal Code |
9796 |
| Palavra de ordem |
Azevedo, |
| Outra parte do nome |
A. |
| Código de função |
Autor |
| 090 ## - Números de controlo do sistema (Koha) |
|---|
| Número biblioitem do Koha (gerado automaticamente) |
109430 |
| 942 ## - Elementos de entrada adicionados (Koha) |
|---|
| Tipo de item no Koha |
Monografia |
| Suprimido |
Disponível no OPAC |
