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Montagem e instalação de um sistema de deposição de camadas atómicas (ALD) e deposição de filmes de Al2O3 e SiO2 para diferentes aplicações [Documento eletrónico] = [Assembly and installation of an atomic layer deposition (ALD) system and deposition of Al2O3 and SiO2 films for different applications] / Florival Moura da Cunha; orient. Manuel Fernando Ribeiro da Silva
Main Author Cunha, Florival Moura da Secondary Author Silva, Manuel Fernando Ribeiro da Corporate Author (Secondary) Universidade do Minho. Escola de Engenharia Country Portugal. Publication [Braga : s.n.], 2023 Dissertation Note or Thesis: Online resource Acesso livreNo physical items for this record
Descrição baseada no documento eletrónico
Dissertação mestrado Engenharia Física, Dispositivos, Microssistemas e Nanotecnologias Escola de Engenharia da Universidade do Minho 2023
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