Montagem e instalação de um sistema de deposição de camadas atómicas (ALD) e deposição de filmes de Al2O3 e SiO2 para diferentes aplicações [Documento eletrónico] = [Assembly and installation of an atomic layer deposition (ALD) system and deposition of Al2O3 and SiO2 films for different applications] / Florival Moura da Cunha; orient. Manuel Fernando Ribeiro da Silva
There are no comments for this item.