Metadata
| 000 -Etiqueta do registo |
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| campo de controlo de comprimento fixo |
00742nam0a22002050004500 |
| 001 - Identificador do registo |
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| Campo de controlo |
24815 |
| 005 - Identificador da versão |
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| Campo de controlo |
20200804103816.0 |
| 010 ## - ISBN |
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| Número (ISBN) |
0-471-07828-X |
| Qualificação |
(Encadernado) |
| 100 ## - Dados Gerais de Proc. |
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| Dados gerais de processamento |
19891102d1980 k y0pory5003 ba |
| 101 0# - Língua da publicação |
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| Língua do texto,banda sonora,etc. |
Inglês |
| 102 ## - País de Publicação |
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| País de publicação |
Estados Unidos |
| 200 1# - Título |
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| Título próprio |
Glow discharge processes |
| Informação de outro título |
sputtering and plasma etching |
| Primeira menção de responsabilidade |
Brian Chapman |
| 210 ## - Publicação, Distribuição |
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| Lugar da edição,distribuição,etc. |
New York |
| Nome do editor,distribuidor,etc. |
John Wiley & Sons |
| Data da publicação,distribuição,etc. |
cop. 1980 |
| 215 ## - Descrição física |
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| Descrição física |
XV, 406 p. |
| Outras indicações físicas |
il. |
| Dimensões |
24 cm |
| 675 ## - CDU |
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| Notação |
539.231 |
| Edição |
int |
| Língua da edição |
Inglês |
| 700 #1 - Responsabilidade principal |
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| Palavra de ordem |
Chapman, |
| Outra parte do nome |
Brian |
| 090 ## - Números de controlo do sistema (Koha) |
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| Número biblioitem do Koha (gerado automaticamente) |
24815 |
| 942 ## - Elementos de entrada adicionados (Koha) |
|---|
| Tipo de item no Koha |
Monografia |
| Suprimido |
Disponível no OPAC |
