Metadata
| 000 -Etiqueta do registo |
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| campo de controlo de comprimento fixo |
00825nam-a2200217---4500 |
| 001 - Identificador do registo |
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| Campo de controlo |
207116 |
| 005 - Identificador da versão |
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| Campo de controlo |
20200804141058.0 |
| 010 ## - ISBN |
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| Número (ISBN) |
0-8155-1432-8 |
| Qualificação |
Encadernado |
| 100 ## - Dados Gerais de Proc. |
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| Dados gerais de processamento |
20010326d1992 k y0pory5003 ba |
| 101 0# - Língua da publicação |
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| Língua do texto,banda sonora,etc. |
Inglês |
| 102 ## - País de Publicação |
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| País de publicação |
Estados Unidos |
| 200 1# - Título |
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| Título próprio |
Handbook of chemical vapor deposition (CDV) |
| Informação de outro título |
principles, technology, and applications |
| Primeira menção de responsabilidade |
Hugh O. Pierson |
| 205 ## - Menção da edição |
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| Menção da edição |
2nd ed |
| 210 ## - Publicação, Distribuição |
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| Lugar da edição,distribuição,etc. |
New York |
| Nome do editor,distribuidor,etc. |
Noyes Publications |
| Data da publicação,distribuição,etc. |
cop. 1999 |
| 215 ## - Descrição física |
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| Descrição física |
XXIV, 482 p. |
| Outras indicações físicas |
il. |
| Dimensões |
24 cm |
| 225 2# - Colecção |
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| Título próprio da colecção |
Materials science and process technology series |
| Informação de outro título da colecção |
electronic materials and process technology |
| 675 ## - CDU |
|---|
| Notação |
621.793.3 |
| Edição |
int |
| Língua da edição |
Inglês |
| 700 #1 - Responsabilidade principal |
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| Palavra de ordem |
Pierson, |
| Outra parte do nome |
Hugh O. |
| 090 ## - Números de controlo do sistema (Koha) |
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| Número biblioitem do Koha (gerado automaticamente) |
207116 |
| 942 ## - Elementos de entrada adicionados (Koha) |
|---|
| Tipo de item no Koha |
Monografia |
| Suprimido |
Disponível no OPAC |
